快科技10月25日消息，據華中科技大學官微消息，近日，該校武漢光電國家研究中心團隊，在國內率先攻克合成光刻膠所需的原料和配方，助推我國芯片制造關鍵原材料突破瓶頸。

據介紹，其研發(fā)的T150A光刻膠系列產品，已通過半導體工藝量產驗證，實現了原材料全部國產，配方全自主設計，有望開創(chuàng)國內半導體光刻制造新局面。

公開資料顯示，光刻膠是一種感光材料，用于芯片制造的光刻環(huán)節(jié)，工作原理類似于照相機的膠卷曝光。芯片制造時，會在晶圓上涂上光刻膠，在掩膜版上繪制好電路圖。

當光線透過掩膜版照射到光刻膠上會發(fā)生曝光，經過一系列處理后，晶圓上就會得到所需的電路圖。

由于光刻膠是芯片制造的關鍵材料，國外企業(yè)對其原料和配方高度保密，目前我國所使用的光刻膠九成以上依賴進口。

武漢光電國家研究中心團隊研發(fā)的這款半導體專用光刻膠對標國際頭部企業(yè)主流KrF光刻膠系列。

相較于國外同系列某產品，T150A在光刻工藝中表現出的極限分辨率達到120nm，且工藝寬容度更大、穩(wěn)定性更高、留膜率更優(yōu)，其對刻蝕工藝表現更好，通過驗證發(fā)現T150A中密集圖形經過刻蝕，下層介質的側壁垂直度表現優(yōu)異。

團隊負責人表示：“以光刻技術的分子基礎研究和原材料的開發(fā)為起點，最終獲得具有自主知識產權的配方技術，這只是個開始。我們團隊還會發(fā)展一系列應用于不同場景下的KrF與ArF光刻膠，致力于突破國外卡脖子關鍵技術，為國內相關產業(yè)帶來更多驚喜?！?