兼具內(nèi)存、閃存優(yōu)勢! 新一代內(nèi)存UltraRAM已準備投入量產(chǎn) 資料保存能力長達千年
- 來源:快科技
- 作者:朝暉
- 編輯:一只小編輯OVO
結(jié)合DRAM內(nèi)存、NAND閃存優(yōu)點的新一代內(nèi)存——UltraRAM終于要來了,如今正邁向量產(chǎn)。
據(jù)報道,UltraRAM的開發(fā)公司Quinas Technology過去一年持續(xù)與先進晶圓產(chǎn)品制造商IQE合作,致力將UltraRAM內(nèi)存的制程推進到工業(yè)化規(guī)模。
UltraRAM被視為結(jié)合DRAM與NAND優(yōu)點的新型存儲器,具備DRAM的高速傳輸、耐用度比NAND高4,000倍、超低能耗,及資料保存能力長達千年等特點。
報道指出,該設(shè)計之所以大幅進展,主要是因為采用銻化鎵(gallium antimonide)與銻化鋁(Aluminium antimonide)的磊晶技術(shù)獲得突破,而且為全球首創(chuàng),將幫助UltraRAM真正進入量產(chǎn)。
據(jù)悉,UltraRAM仰賴磊晶技術(shù),后續(xù)才會經(jīng)過曝光與蝕刻等半導體制程,來構(gòu)建內(nèi)存芯片結(jié)構(gòu)。
ps.磊晶技術(shù)簡單說就是在襯底(比如硅片、藍寶石)這個 “原子模板” 上,讓原子順著模板的晶格紋路定向生長,最終形成一層沒有 “拼接縫” 的高質(zhì)量單晶薄膜(磊晶層)的工藝.
IQE首席執(zhí)行官Jutta Meier指出:“我們已經(jīng)成功達成目標,為 UltraRAM開發(fā)出可擴展的磊晶制程,這是邁向封裝芯片工業(yè)化生產(chǎn)的重要里程碑。 這個項目代表了一個獨特機會,將下一代復合半導體材料在英國實現(xiàn)“。
Quinas首席執(zhí)行官兼共同創(chuàng)辦人James Ashforth-Pook也表示,這次合作的成果是從大學研究邁向商業(yè)存儲器產(chǎn)品之旅的轉(zhuǎn)折點。
據(jù)悉,在接下來的商業(yè)化路徑中,Quinas與IQE計劃與各大晶圓廠與合作伙伴探討試產(chǎn)的可能性。

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